Nové čisté prostory pro
elektronovou nanolitografii (EBL)
na bázi
rastrovacího elektronového mikroskopu (SEM)

 

 

Dokumentace:

 

Ideový návrh uspořádání laboratoře (verze 0530 = MMDD):



Podkladem tohoto náčrtku i dalších schémat je čtvercová síť teček se skutečnou roztečí 0,5 metru.

Typy místností:
- třída čistoty   100 : buňka pro aparaturu EBL (se stabilizací teploty na +/-0,5°C), prostor "1b" (s odtahem 1200m3/hod),
- třída čistoty   1000 : zbývající část čistého sálu "1a",
- třída čistoty  10000 : prostor "1c", prostor "1d" (s odtahem 2400m3/hod)


 



Rozmístění (očíslovaných) součástí laboratoře (verze 0703):

Označení (a funkce) jednotlivých místností:
místnost č.F39 - "černá" kancelář (personál - příprava topologických návrhů struktur),
m.č. F40 - "šedá" kancelář (personál - dohled nad technologickými procesy),
m.č. F41 - "šedý servis" (personál - servis zařízení, část technologické výbavy),
m.č. F42 - "šedá" strojovna (vzduchotechnika, část technologické výbavy),
m.č. F43A - "černá šatna" (první převléknutí z oděvu pro venkovní prostory),
m.č. F43B - "šedá šatna" (převléknutí a přezutí pro přechod do bílé šatny),
m.č. F44 - "bílá šatna" (definitivní převléknutí do kombinéz pro čisté sály),
m.č. F45 - sál čistoty třídy 10000 (mokré a suché leptací procesy),
m.č. F46+F47 - sál základní čistoty třídy 1000 obsahující zóny třídy čistoty 100 (litografie)




Zóna elektronové litografie a mikroskopie (EBL/SEM): 
E1 - základní jednotka aparatury (tubus)
E2 - stojan s řídicí elektronikou
E3 - pult operátora EBL/SEM
E4 - antivibrační blok (pro EBL/SEM)
E5 - laminární zóna +/-0,5°C a čistoty třídy 100
E6 - předčerpání (vývěva)
E7 - cívka X (systému aktivního tlumení mag.pole)
E8 - cívka Y  (   - " -   )
E9 - cívka Z   (   - " -   )
E10 - sedadlo operátora EBL/SEM
E11 - agregát hlavního termostatu EBL/SEM
E12 - agregát termostatu elektronové optiky (na 0,1°C)
E13 - záložní napájecí zdroj ovládání litografu (UPS)
    Zóna zpracování rezistů (místnost č.F47): 
R1 - chemický box (depozice elektronových rezistů)
R2 - chem.box (zpracování elektronových rezistů)
R3 - chemický box (depozice fotorezistů)
R4 - chem.box (zpracování fotorezistů)
R5 - odsávaná skříňka na rezisty
R6 - odsávaná skříňka na vývojky a chemikálie
R7 - storno
R8 - laminární zóna čistoty třídy 100
R9 - antistatický závěs
     
Oblast fotolitografie a optické mikroskopie (m.č.F47): 
F1 - závěsné laminární pole (optický mikroskop)
F2 - závěsné lam.pole (diagnostika)
F3 - závěsné lam.pole (kontaktní expoziční zařízení)
F4 - závěsné lam.pole (projekční expoziční zařízení)
F5 - antivibrační blok (pro projekční exp.zařízení)
F6 - antivibrační blok (pro kontaktní exp.zařízení)
    Sál mokrého a suchého leptání (místnost č.F45): 
L1 - odsávaná digestoř (korozivzdorné provedení)
L2 - chemický box (mokré leptání - anorg.)
L3 - storno
L4 - chemický box (mokré leptání - organika)
L5 - odsávaná skříňka na chemikálie (anorg.)
L6 - odsávaná skříňka na chemikálie (organika)
L7 - aparatura pro suché leptání (PE)
L8 - aparatura pro suché leptání (RIE)
L9 - závěsné laminární pole (optický mikroskop)
L10 - závěsné laminární pole
     
Technické zázemí (místnosti č.F41 a č.F42 - strojovna): 
T1 - tlaková nádoba (O2)
T2 - tlaková nádoba (CF4)
T3 - tlaková nádoba (rezervní pozice)
T4 - příprava DEMIneralizované vody
T5 - bezolejový kompresor (pro rozvod stlačeného vzduchu)
T6 - vývěva a centrální zásobník vakua
T7 - tlaková nádoba (formovací plyn Ar+5%H2)
T8 - žíhací zařízení (pec)
T9 - zařízení (diamantová mikropila) pro řezání čipů
T10 - depoziční zařízení
T11 - vyvíječ plynného dusíku z kapalného (LN2)
    Některé další součásti: 
F7 - antivibrační blok (m.č.F40) pro analyt.zařízení
O1 - okno vizuální kontroly sálu č.F46
P1 - rekonstruovaný plynoměr (na fasádě)
P2 - plyn.kotel ohřevu pro vstupní VZT jednotku
U1 - umyvadlo s bezpečnostní sprchou (m.č.F47)
U2 - umyvadlo s bezpečnostní sprchou (m.č.F45)
U3 - umyvadlo v místn.č.F39
U4 - umyvadlo v místn.č.F40
U5 - umyvadlo v místn.č.F41
U6 - vodovodní vývod + odpad v m.č.F42
U7 - vodov.vývod + odpad v m.č.F42 (pro úklid)
V1 - vzduchotechnické jednotky (dle projektu VZT)
V2 - řídící počítač k měření a regulaci (MaR) VZT


"Quasi-3D nadhledy" nad laboratoří (dveře D10 a některé další detaily nejsou v pohledech zakresleny):



 


  

Orientace centrální jednotky EBL vzhledem k jednotce zatmívače svazku
Orientace centrální jednotky EBL vzhledem k jednotce zatmívače svazku

 



Technické popisy zařízení pro aktivní kompenzaci rušivých magnetických polí ke stažení zde: SC12, SC20.


Aktualizace:    14.10.2006


Na domovskou stránku laboratoře

 

   English version