Význam zkratek použitých v tabulce:
Způsob depozice:
S - naprašování (magnetron sputtering)
E - napařování (evaporation)
Typ napařovacího zdroje:
G - elektronové dělo (electron gun)
B - odporová lodička (boat)
Poloha substrátu vzhledem ke zdroji:
L - krátká vzdálenost (A - lower holder) [ ~5 cm, max.rozměr vzorku ~ 38mm x 38mm]
U - dlouhá vzdálenost (B - upper holder) [ ~30 cm, max.rozměr vzorku ~ 76mm x 76mm]
Poznámky:
DK - depozice drahých kovů, TV - vhodné pro tenčí vrstvy
Material | SL | EGL | EGU | EBL | EBU | Poznamky | # |
Au0,88Ge0,12 | X |
|
|
|
|
|
1.a |
Au0,88Ge0,12 + Ni | X |
|
|
|
|
|
1.b |
Ni |
|
|
|
|
|
|
1.c |
Ti |
|
|
|
|
|
|
2.a |
Pt |
|
|
|
|
|
|
2.b |
Pd |
|
|
|
|
|
|
2.c |
Au |
|
|
|
|
|
|
2.d |
Au |
|
|
|
|
|
|
2.e |
Ti |
|
|
|
|
|
|
3.a |
Ti | X |
|
|
|
|
|
3.b |
Ni0,8Cr0,2 |
|
|
|
|
|
|
4.a |
Ni0,8Cr0,2 |
|
|
|
|
|
|
4.b |
Material | SL | EGL | EGU | EBL | EBU | Poznamky | # |
Ni |
|
|
|
|
|
|
5.a |
Ni | X |
|
|
|
|
|
5.b |
Ni0,93V0,07 | X |
|
|
|
|
|
5.c |
Pt |
|
|
|
|
|
|
6.a |
Al |
|
|
|
|
|
|
7.a |
Al |
|
|
|
|
|
|
7.b |
Al |
|
|
|
|
|
|
7.c |
Ag |
|
|
|
|
|
|
8.a |
Ag |
|
|
|
|
|
|
8.b |
Ge |
|
|
|
|
|
|
9.a |
Ge |
|
|
|
|
|
|
9.b |
Material | SL | EGL | EGU | EBL | EBU | Poznamky | # |
Některé další materiály podle dohody
Aktualizace: 31.3.2005