Představení nové laboratoře elektronové nanolitografie



Slavnostního představení nové laboratoře dne 29.10.2007 na pracovišti Fyzikálního ústavu AV ČR v. v. i. na Praze 6, Cukrovarnická ul. 10 se zúčastnil předseda AV ČR prof. RNDr. Václav Pačes, představitelé vedení a pracovníci ústavu i zástupci dodavatelských firem, jež pracoviště vybudovaly. Následující fotografie (laskavě poskytnute pí.R.Louvarovou) ilustrují návštěvu laboratoře, prezentaci řešitele projektu a setkání s pracovníky institucí, jež se na stavbě čisté laboratoře podílely.


 Nejčistší část pracoviště - laminární zóna (s koncovými filtry H14 na 4.stupni filtrace vzduchu) pro depozici a zpracování elektronových rezistů a fotorezistů.
 Nejčistší část pracoviště - laminární zóna (filtry H14) pro depozici a zpracování rezistů.

 

 

Náhledy obrázků lze zvětšit kliknutím na jejich plochy. Po přidržení kurzoru na tyto plochy se zobrazí popis snímků.
 Sál pro suché a mokré leptání - prostor čistoty tř.10000.  Litografický sál základní čistoty tř.1000 obsahuje 2 laminární zóny (tř.100). Elektronový nanolitograf vpravo.  Nejčistší část pracoviště - laminární zóna (filtry H14) pro depozici a zpracování rezistů.  Pohled do přednáškového sálu při prezentaci.  Pohled do přednáškového sálu při prezentaci.  Prezentace řešitele projektu.
 Prezentace technických parametrů laboratoře a elektronového nanolitografu.  Zvláštní poděkování ..  Diskuse účastníků setkání.  Diskuse účastníků setkání.  Diskuse účastníků setkání.  Diskuse účastníků setkání.

Zpět na domovskou stránku


Aktualizace: 31.10.2007

English