Přehled technologií,
určených pro čisté
fotolitografické pracoviště
(odd.15 FZÚ - místn.č.17A, 17, 16, 15)
Charakteristika
pracoviště:
Základním určením uvedeného pracoviště se zvýšenou čistotou je zajišťování technologií nezbytných pro fotolitografické zpracování studovaných vzorků (a to jak pro odd.15, 14, tak pro další oddělení FZÚ i pro ostatní spolupracující pracoviště). Jedná se především o zpracování vzorků polovodičových materiálů (A3B5, Si) pro hallovské struktry, struktury MESFET/MISFET, apod. Současně však bude možno pracovat se vzorky supravodivých materiálů, optických krystalů, laminátových a keramických substrátů pro HIO, atd.
Pracoviště je koncipováno tak, aby v něm bylo možno provádět i nutné technologické operace, u kterých v průběhu technologické přípravy nelze opustit čistý prostor. Z takových operací se předběžně se předpokládá začlenit do čistých prostor zejména některé metody mokrého leptání polovodičových, dielektrických a kovových vrstev, některé metody suchého leptání (plazmové leptání v barelovém a planárním uspořádání, RIE - reaktivní iontové leptání) a depozice kovových vrstev (pro přípravu ohmických kontaktů resp. hradlových elektrod na vzorcích, atd.).
Rozčlenění technologií podle
místností / přehled chemikálií:
upřesnění skladby chemikálií i jejich spotřeby bude vždy záviset na konkretním druhu zpracovávaných vzorků. Rámcově se však bude jednat o následující hodnoty.
m.č.17A: LITOGRAFIE A MĚŘENÍ:
(1.1) 1 laminární box - expozice substrátů:
Používané chemikálie: - žádné
(1.2) 1 laminární chemický (tj. odsávaný) box - čištění vzorků ve vodních roztocích
Používané chemikálie:
- demineralizovaná voda
- vodovodní (pitná) voda
-
anorganické kyseliny pp, pa
(H2 SO4 , HCl, HF, HNO3 , apod)
množství: celkem cca 2 l / rok
- louhy
pp, pa
(NaOH, apod.)
množství:
celkem cca 2 l / rok
odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve po silném zředění resp. po neutralizaci
(1.3) 1 laminární chemický box - čištění vzorků v organických
rozpouštědlech
Používané chemikálie: - organické sloučeniny
(líh,
aceton, isopropanol, apod)
množství: celkem cca 20 l / rok
odpad bude shromažďován ve
speciálních nádobách a předáván k likvidaci podle platných předpisů
(1.4) 1 odsávaný box - elektrochemická úprava vzorků
bude se jednat o bezodpadové technologie
Používané chemikálie: - galvanická lázeň: dodavatel MAG
s.r.o. Jablonec
nad
Nisou
složení: KAu(CN)2 1% objem: 10 litrů
způsob likvidace: odevzdání do fy SAFINA a.s. Vestec
Pozn.: Obsluhu technologické operace 1.4 provádí výhradně pracovník k tomu
určený, který má příslušné opravnění. Řídí se přitom platnými předpisy pro práci se zvláště nebezpečnými jedy. Zásobní
chemikálie jsou přechovávány v příslušně zabezpečeném trezoru. Lázeň je v
uzamykatelné digestoři.
m.č.17: FOTOLITOGRAFIE:
(2.1) 1 laminární chemický box - vyvolávání fotorezistů
Používané chemikálie: - demineralizovaná voda
-
vodovodní (pitná) voda
-
louhy pp, pa
(NaOH, apod.)
množství: celkem cca 2
l / rok
odpad bude vypouštěn
do kanalizace teprve po silném zředění
resp. po neutralizaci
(2.2) 1 laminární chemický box - nanášení fotorezistů (a vyvolávání neg. rezistu)
Používané chemikálie: - fotorezisty (organické sloučeniny)
- ředidla
pro rezisty (aceton, xylen,
butylacetát, apod)
množství: celkem cca 5 l / rok
odpad bude
shromažďován ve speciálních nádobách a předáván k likvidaci podle platných předpisů
(2.3) 2 laminární obstavné boxy - expozice vzorků s fotorezistem
Používané chemikálie: - žádné
(2.4) 1 laminární box - kontrolní mikroskopie
Používané
chemikálie: - žádné
m.č.16: LEPTÁNÍ
A DEPOZICE VRSTEV :
(3.1) Barelová plazmová leptačka (odstraňování vrstev fotorezistu)
Používané chemikálie: - O2 z tlakové láhve
(3.2) Planární plazmová leptačka (proleptávání otvorů ve vrstvách)
Používané chemikálie: - O2 z tlakové láhve (téže jako pro 3.1)
- CF4
z tlakové láhve
(3.3) Planární plazmová leptačka (proleptávání otvorů ve vrstvách)
Používané chemikálie: - O2 z tlakové láhve (téže jako
pro 3.1)
- CF4
z tlakové láhve (téže jako pro 3.2)
Celkové
množství potřebné pro 3.1, 3.2, 3.3:
max 1 tlaková láhev O2 / rok
max 1
tlaková láhev CF4 / 3 roky
(3.4) Napařovací aparatura - nanášení kovových vrstev
Používané chemikálie: - žádné
m.č.15: STROJOVNA:
(4.1) vzduchotechnická výbava - viz projekt vzduchotechniky
(4.2) zařízení pro čištění vody (filtr)
(4.3) kompresor (bezolejový) - pro stlačený vzduch
(4.4) rotační vývěvy - pro pomocné vakuum
Používané chemikálie: - žádné
26.10.1998