Přehled technologií,

určených pro čisté fotolitografické pracoviště

(odd.15  FZÚ - místn.č.17A, 17, 16, 15) 

 

Charakteristika pracoviště:

 

Základním určením uvedeného pracoviště se zvýšenou čistotou je zajišťování technologií nezbytných pro fotolitografické zpracování studovaných vzorků (a to jak pro odd.15, 14, tak  pro další oddělení FZÚ i pro ostatní spolupracující pracoviště). Jedná se především o zpracování vzorků polovodičových materiálů (A3B5, Si) pro hallovské struktry, struktury MESFET/MISFET, apod. Současně však bude možno pracovat se vzorky supravodivých materiálů, optických krystalů, laminátových a keramických substrátů pro HIO, atd.

 

Pracoviště je koncipováno tak, aby v něm bylo možno provádět i nutné technologické operace, u kterých  v průběhu technologické přípravy nelze opustit čistý prostor.  Z takových operací se předběžně se předpokládá začlenit do čistých prostor zejména některé metody mokrého leptání polovodičových, dielektrických a kovových vrstev, některé metody suchého leptání (plazmové leptání v barelovém a planárním uspořádání, RIE - reaktivní iontové leptání) a depozice kovových vrstev  (pro přípravu ohmických kontaktů resp. hradlových elektrod na vzorcích, atd.).

 

 

Rozčlenění technologií podle místností / přehled  chemikálií:

     

    upřesnění skladby chemikálií i jejich spotřeby bude vždy záviset na konkretním druhu zpracovávaných vzorků.  Rámcově se však bude jednat o následující hodnoty.

 

m.č.17A:  LITOGRAFIE A MĚŘENÍ:

 

(1.1) 1 laminární  box  - expozice substrátů:

                          Používané chemikálie: - žádné

 

(1.2) 1 laminární chemický (tj. odsávaný) box - čištění  vzorků ve vodních roztocích

                         Používané chemikálie: - demineralizovaná voda

                                                            - vodovodní (pitná) voda

                                                            - anorganické kyseliny pp, pa

                                                              (H2 SO4 , HCl,  HF, HNO3 , apod)

                                                             množství:  celkem cca 2 l / rok

                                                            - louhy pp, pa

                                                              (NaOH, apod.)

                                                                množství:  celkem cca 2 l / rok

 

           odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve  po silném zředění resp. po neutralizaci

 

(1.3) 1 laminární chemický box - čištění vzorků v organických rozpouštědlech

                          Používané chemikálie: - organické  sloučeniny

                                                             (líh, aceton, isopropanol,  apod)

                                                             množství:  celkem cca 20 l / rok

 

            odpad bude shromažďován ve speciálních  nádobách a předáván k             likvidaci podle platných předpisů

 

(1.4) 1 odsávaný box - elektrochemická úprava vzorků

                                    bude se jednat o bezodpadové technologie

 

                          Používané chemikálie: - galvanická lázeň: dodavatel MAG s.r.o. Jablonec

                                                                                                nad Nisou

                                                                 složení: KAu(CN)2      1%                                                                                                                                  objem: 10 litrů

                                                                 způsob likvidace: odevzdání do fy SAFINA a.s. Vestec

 

Pozn.: Obsluhu technologické operace 1.4 provádí výhradně pracovník k tomu určený, který má příslušné opravnění. Řídí se přitom platnými předpisy pro  práci se zvláště nebezpečnými jedy. Zásobní chemikálie  jsou přechovávány  v příslušně zabezpečeném trezoru. Lázeň je v uzamykatelné digestoři.

                      

                                                           

 

m.č.17:  FOTOLITOGRAFIE:

 

(2.1) 1 laminární  chemický box  - vyvolávání fotorezistů

                          Používané chemikálie: - demineralizovaná voda

                                                             - vodovodní (pitná) voda

                                                             - louhy pp, pa

                                                               (NaOH, apod.)

                                                                 množství:  celkem cca 2 l / rok

 

                          odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve  po silném zředění resp.                   po neutralizaci

 

(2.2) 1 laminární chemický box -  nanášení fotorezistů (a vyvolávání neg. rezistu)

                          Používané chemikálie: - fotorezisty (organické  sloučeniny)

                                                           - ředidla pro rezisty  (aceton, xylen, butylacetát,  apod)

                                                           množství:  celkem cca 5 l / rok

 

                        odpad bude shromažďován ve speciálních nádobách a předáván k                   likvidaci podle platných předpisů

 

(2.3) 2 laminární obstavné boxy - expozice vzorků s fotorezistem

                                                     Používané chemikálie: - žádné

 

(2.4) 1 laminární box - kontrolní mikroskopie

                                                  Používané chemikálie: - žádné

 

 

 

 

 

m.č.16:  LEPTÁNÍ  A  DEPOZICE  VRSTEV :

 

(3.1)  Barelová plazmová leptačka (odstraňování vrstev fotorezistu)

                          Používané chemikálie: - O2   z tlakové láhve

 

(3.2)  Planární plazmová leptačka (proleptávání otvorů ve vrstvách)

                          Používané chemikálie: - O2   z tlakové láhve (téže jako pro 3.1)

                                                               - CF4   z tlakové láhve

 

(3.3)  Planární plazmová leptačka (proleptávání otvorů ve vrstvách)

                          Používané chemikálie: - O2   z tlakové láhve  (téže jako pro 3.1)

                                                               - CF4   z tlakové láhve  (téže jako pro 3.2)

 

Celkové množství potřebné pro 3.1, 3.2, 3.3:  max 1 tlaková láhev O2 / rok

                                                                        max 1 tlaková láhev CF4 / 3 roky

 

 

(3.4)  Napařovací aparatura -  nanášení kovových vrstev

                          Používané chemikálie: - žádné

 

 

 

m.č.15:  STROJOVNA:

 

(4.1)  vzduchotechnická výbava  - viz projekt vzduchotechniky

 

(4.2)  zařízení pro čištění vody (filtr)

 

(4.3)  kompresor (bezolejový) - pro stlačený vzduch

           

(4.4) rotační vývěvy - pro pomocné vakuum

 

                          Používané chemikálie: - žádné

 

 

 

26.10.1998