Přehled technologií
určených pro čisté pracoviště
elektronové nanolitografie a fotolitografie
(odd.15 FZÚ AVČR - místn.č. F47, F46, F45 a jejich zázemí č.F39-F44)
Charakteristika pracoviště:
Základním určením uvedeného pracoviště se vysokou čistotou prostředí je zajišťování technologií nezbytných pro litografické zpracování studovaných vzorků (a to jak pro odd.15, tak pro spolupracující oddělení FZÚ i další pracoviště účastnící se společných badatelských projektů, zejména MFF UK Praha, FEL ČVUT
Praha, aj.). Jedná se především o přípravu vzorků s vertikálními kvantově rozměrnými strukturami vyžadujících zpracování horizontálních (laterálních) struktur s rozlišením lepším než 100 nm. Kromě elektronové nanolitografie (EBL) zde bude zajišťována i fotolitografie (příprava struktur s rozměry řádově jednotek mikrometrů a větších). Technologie je zaměřena zejména na oblast polovodičových materiálů (A3B5, Si, diamant, aj). Současně však bude možno pracovat se vzorky supravodivých materiálů, optických krystalů, laminátových a keramických substrátů pro montáž vzorků k měření, atd.Pracoviště je koncipováno tak, aby v něm bylo možno provádět i nezbytné technologické operace, které je nutno provádět v čistém prostředí. Z takových operací se předběžně předpokládá začlenit do čistých prostor zejména některé metody mokrého leptání polovodičových, dielektrických a kovových vrstev, některé metody suchého leptání (plazmové leptání v barelovém a planárním uspořádání, RIE - reaktivní iontové leptání), metody tep
lotního zpracování (žíhání), případně i depozice kovových vrstev (pro přípravu ohmických kontaktů resp. hradlových elektrod na vzorcích, atd.).Laboratoř bude mít vytvořeny podmínky umožňující její další rozvoj (doplňování a modernizace technologického a přístrojového vybavení), aniž by to narušilo její provozuschopnost.
Rozčlenění technologií podle místností
/ přehled chemikálií:
upřesnění skladby chemikálií i jejich spotřeby bude vždy záviset na konkretním druhu zpracovávaných vzorků. Rámcově se však bude jednat o následující hodnoty.
místnosti č. F47+F46: ELEKTRONOVÁ NANOLITOGRAFIE, FOTOLITOGRAFIE:
(E1) - elektronový nanolitograf (na antivibračním bloku) - expozice vzorků s elektronovým
rezistem
Používané chemikálie: - žádné
Média: - vysušený plynný dusík z jeho rozvodu (pro
zavzdušňování aparatury)
- tlakový vzduch (ovládání pneumatických ventilů)
(F2-F3) - optická sesazovací zařízení - expozice vzorků s fotorezistem
Používané chemikálie: - žádné
Média: - chladicí oběhová voda, tlakový vzduch, dusík
(F4) - optické projekční zařízení (na antivibračním bloku) - expozice vzorků s fotorezistem
Používané chemikálie: - žádné
Média: - tlakový vzduch (ovládání pneumatických ventilů)
(R1, R3) - 2 laminární chemické boxy - nanášení elektronového rezistu a fotorezistů
Používané chemikálie: - rezisty (organické sloučeniny)
- ředidla pro rezisty (aceton, xylen, butylacetát,
apod), množství: celkem cca 4 l / rok
odpad bude shromažďován ve speciálních nádobách a předáván k
likvidaci podle platných předpisů
(R2, R4) - 2 laminární chemické boxy - vyvolávání elektronového rezistu a fotorezistů
Používané chemikálie: - demineralizovaná voda
- vodovodní (pitná) voda
- vývojky, louhy pp, pa (NaOH, apod.)
množství: celkem cca 2kg / rok
odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve po silném zředění resp.
po neutralizaci
(R5, R6) - 2 odsávané skříňky na chemikálie – pro uchovávání provozního (tj. malého,
viz údaje u položek R1-R4) množství
rezistů a vývojek na pracovišt
(F1) - kontrolní optická mikroskopie Používané chemikálie: - žádné
(E3,E10) – ovládací pult EBL, stanoviště operátora
Používané chemikálie: - žádné
(E6) – technologické zázemí aparatury EBL (2x chladicí systém, vývěva):
– definitivní poloha bude upřesněna dodavatelem této aparatury
(pravděpodobně budou tyto součásti přemístěny do ”šedé zóny”/strojovny č.F42)
Používané chemikálie: - žádné
místnost č. F
45: LEPTÁNÍ VRSTEV :(L1) - 1 chemický box/digestoř s odtahem (korozivzdorné provedení) – čištění
technologických přípravků
Používané chemikálie: - demineralizovaná voda
- vodovodní (pitná) voda
- kyseliny pp, pa (H2SO4, HNO3, HCl, apod.)
množství: celkem cca 3 l / rok
- peroxid vodíku množství: celkem cca 2 l / rok
odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve po silném zředění resp.
(L2) - 1 chemický box – mokré leptání zpracovávaných struktur
Používané chemikálie: - demineralizovaná voda
- vodovodní (pitná) voda
- kyseliny pp, pa (H2SO4, HF, H3PO4, apod.)
množství: celkem cca 3 l / rok
- peroxid vodíku množství: celkem cca 2 l / rok
odpad bude vypouštěn do kanalizace teprve po silném zředění resp.
po neutralizaci
(L4) - 1 chemický box – čištění vzorků v organických chemikáliích
Používané chemikálie: - organické sloučeniny (rozpouštědla: aceton,
xylen, apod),
množství: celkem cca 3 l / rok
odpad bude shromažďován ve speciálních nádobách a předáván k
likvidaci podle platných předpisů
(L7) - Barelová plazmová leptačka (odstraňování vrstev fotorezistu)
Používané chemikálie: - O2 z tlakové láhve (uložené mimo tento prostor)
(L8) - Planární plazmová leptačka / RIE (proleptávání otvorů ve vrstvách)
Používané chemikálie: - O2 z tlakové láhve (téže jako pro L7)
- CF4 z tlakové láhve (uložené mimo tento prostor)
Celkové množství potř
ebné pro L7, L8: max 1 tlaková láhev O2 / rokCelkové množství potřebné pro L8: 0 max 1 tlaková láhev CF
4 / 3 roky(L5, L6) - 2 odsávané skříňky na chemikálie – pro uchovávání provozního (tj. malého,
viz údaje u položek L1-L4) množství
chemikálií na pracovišt
(L9.L10) – Měřicí a vyhodnocovací stanoviště
Používané chemikálie: - žádné
místnost č. F41: ”ŠEDÝ SERVIS”:
(T8) - žíhací zařízení (pec)
Používané chemikálie: - formovací plyn (Ar + 5%H2 z tlakové láhve)
- plynný dusík (z jeho rozvodu)
(T9) - řezací zařízení (mikropila)
Používané chemikálie: - žádné
Média: - stlačený vzduch (z jeho rozvodu – 20l/min
(T10) - depoziční aparatura
Používané chemikálie: - žádné
Média: - vysušený plynný dusík z jeho rozvodu (pro zavzdušňování aparatury)
místnost č. F42: STROJOVNA:
(V1) vzduchotechnická výbava - viz projekt vzduchotechniky
(T4) zařízení pro čištění vody (reverzní osmóza + deionizační kolona s oběhovým čerpadlem)
(T5) kompresor (bezolejový) - pro stlačený vzduch (35l/min @ 8bar)
(T6) rotační vývěvy - pro pomocné vakuum
(E6) vývěva - pro aparaturu E1
(E11,E12) chladicí jednotky pro aparaturu E1
Používané chemikálie: - žádné
Poznámky k provoznímu řádu
pro pracoviště “LITOGRAFIE” (FZÚ AV ČR, Cukrovarnická 10, místn. č.F47, F46, F45):
1) Počet pracovníků současně přítomných na čistém pracovišti: minimálně: 2
maximálně: 4
2) Místo pobytu pracovníků v době, kdy nebudou přítomni na čistém pracovišti:
v místnostech č.: F39, F40, F41
3) Místo převlékání pracovníků po příchodu z venku do areálu FZÚ Cukrovarnická 10:
”černá šatna” – vstupní přehrazená část chodby č.F43A
4) Místo dalšího převlékání pracovníků při vstupu do čistého pracoviště:
”šedá šat
na” – střední přehrazená část chodby č.F43B5) Maximální délka pobytu osob na čistém pracovišti (F47, F46, F45): maximálně 4 hodiny denně
6) Osvětlení čistého pracoviště:
a) prostor litografie (fotokomora č.F47+F46): bílé zářivkové osvětlení (min. 500 lx) s
b) ostatní prostory pracoviště: bílé zářivkové osvětlení (min. 500 lx)
3.7.2006, vyborny@fzu.cz